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常州天合光能有限公司

技术专利

申请号201010620327.0 申请日2010.12.31
名称一种太阳能电池薄膜的生长方法
公开(公告)号CN102154708A 公开(公告)日2011.08.17
主分类号C30B33/00(2006.01)I 分案原申请号
分类号C30B33/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
颁证日 优先权
申请(专利权)人常州天合光能有限公司
地址213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
发明(设计)人刘亚锋 国际申请
国际公布 进入国家日期
专利代理机构常州市维益专利事务所 32211 代理人王凌霄
专利描述 本发明涉及太阳能电池制造技术领域,尤其是一种薄膜的生长方法,主要步骤为对太阳能用晶体硅片进行表面制绒,送入氧化炉进行氧化工艺,对氧化膜进行退火处理,然后进行后续太阳能电池工艺。本发明氧化膜生长速度快,质量高,钝化性能优越;硅片在低温下进出炉管,氧化膜应力小,缺陷少;本发明的氧化工艺和退火工艺在同一个设备中进行,产量高。
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